某光电器件生产商家因晶圆清洁生产工艺生成含氨废水办理，发电量200吨/天。废水办理中除化学需氧量外还包含氟化物和进样器血本属，办理困难大。各地排污标准追求化学需氧量＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣部分及收入 晶圆洗掉废气（基本來源）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀繁琐流程废水处理方法：含氢化物发生器铜、镍等高价属，pH值起伏大 CMP研磨抛光生活污水：含硅科粒及氧化还原电位 工作工艺技术程序 选择"化学上积淀+膜溶合+折点氯化"组合构成技艺： 预治理 ：添加CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置设计 ：消除0.01μm往上粒状物 反渗透设备到精浓 ：将氧化还原电位浓缩造成至1000mg/L这 折点氯化 ：精确度高调控氯加药量，将高锰酸盐指数转成为N2 阴阳离子对调 ：服务保障巨资属及格 结果英文体验 挥发酚稳定性高＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属水分含量不低于查测限 水中水回用率达75% 污水存在量减掉40%