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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆打造厂是在华中中南部,首要产生8英尺半导体材料晶圆,单日生活污水尾气总量下跌约800吨。原因产生期间中安全使用大规模盐酸做好晶圆蚀刻,以至于生活污水下氟化物浓度值高达hg200-300mg/L,远超欧洲国家尾气排放物准则(10mg/L如下)。 废污水化学成分及源头 工业废水注意来自五湖四海6个流程: 晶圆蚀刻工艺技术 :含高酸度氟化物(HF)、硝酸铵及极少量巨资属 电学自动化机械打蜡 (CMP)焦化废水 :含纳米技术级硅粒子、有机肥料络合剂 仪器洗化工废水 :含异丙醇、氯离子等充分物 治理 方法步骤流程 利用"耐腐蚀滤渣自己+混泥土滤渣自己+高度过滤水"三级视频治理 体系: 一层正确处理 :加药系统氯化钙和氢被氧化钙,建成氟化钙发展,氟化物除去率达85% 中级除理 :加上PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(pp聚丙烯酰胺),的还原固体态环保问题物 3级治疗 :顺利通过多有机溶剂脱水器和活性酶炭气体吸附,溢水氟化物盐浓度相对稳定在8mg/L以內 关键的主设备还有:pH智能改善设计、斜管析出池、板框刮刀离心机(活性污泥脱水等)。 最终能够疗效 业务运动六年监测网数据报告出现: 氟化物的平均盐浓度:7.2mg/L(小于国内条件) COD清除率:92% 厌氧颗粒污泥水分含量率:≤65% 年回收处理氟化钙副商品约150吨,做到资源性化利用

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